1 引言

• 固溶：1050–1200℃，控溫精度 ±1–±2℃；

• 時效：700–900℃，長時間保溫、溫度波動≤±1℃；

• 氣氛保護：Ar/N?或真空，避免合金元素氧化與貧化。

2 核心技術

2.1 加熱元件與爐膛熱場設計

• 1200℃級：采用HRE 螺旋電阻絲，均勻鑲嵌于氧化鋁纖維爐膛，熱輻射均勻，無局部熱點；

• 1400–1800℃級：選用硅鉬棒 / 硅碳棒，分區布置，配合導流結構，爐膛溫差≤±3℃；

• 爐膛采用高純氧化鋁纖維 + 多層隔熱，無石棉，蓄熱小、升降溫快，外表溫度＜60℃，能耗較傳統爐低 20–30%。

2.2 智能控溫系統

• 采用30 段可編程 PID，支持復雜升溫 / 保溫 / 降溫曲線，適配多段時效工藝；

• 多通道熱電偶（K/S/B 型）實時采集，控溫精度 ±0.5℃，長期穩定性 ±1℃；

• 超溫、斷偶、過流、缺水四重安全聯鎖，保障高溫合金長時間熱處理安全。

2.3 氣氛與真空保護系統

• 管式 / 箱式氣氛爐：標配高精度氣體流量控制（Ar/N?），氧含量＜10ppm，防止合金氧化與晶界貧化；

• 真空氣氛爐：極限真空5×10?3Pa，可實現真空 + 氣氛切換，滿足高溫合金真空退火、脫氣、釬焊預處理；

• 密封結構采用耐高溫硅橡膠 + 水冷法蘭，長期高溫不漏氣、不老化。

3 典型應用案例（虹約設備）

• GH4169 固溶 + 雙時效：1080℃×1h → 720℃×8h → 620℃×8h；使用虹約 1200℃精密箱式爐，整爐溫差≤±2℃，γ’’相尺寸均勻，抗拉強度與疲勞壽命穩定達標。

• 粉末高溫合金熱等靜壓預處理：1150℃真空保溫 + Ar 加壓；使用虹約 1400℃真空氣氛爐，氧含量＜5ppm，粉末無氧化，致密度≥99.8%。

4 結論